采用直接氮化法制備高端α-Si?N?粉體，α-Si?N?＞94%（XRD檢測），游離硅≤0.3%，O＜0.5%，C＜0.1%
高端氮化硅粉體燒結爐具有H2安全保護、防竄氣技術 、多段溫度曲線設定，多種氣體流量自動精準控制（無需人工調節）、脈沖式充氣、氣體循環控溫、發熱體衰減檢測、發熱體漏電監測、全面故障自診斷等功能。主要用于高端氮化硅粉料的生產。
高端氮化硅粉體燒結爐具有H2安全保護、防竄氣技術 、多段溫度曲線設定，多種氣體流量自動精準控制（無需人工調節）、脈沖式充氣、氣體循環控溫、發熱體衰減檢測、發熱體漏電監測、全面故障自診斷等功能。主要用于高端氮化硅粉料的生產。
采用直接氮化法制備高端α-Si?N?粉體，α-Si?N?＞94%（XRD檢測），游離硅≤0.3%，O＜0.5%，C＜0.1%
| 裝料空間 | H500*W500*L1800 |
| H300*W300*L1200 | |
| 最高溫度 | 1600℃ |
| 最高工作壓力 | 0.9bar |
| 極限真空度 | 0.5pa |
| 真空泄漏率 | ≤5×10-3 mbarl/s |
| 真空泵組 | 旋片泵+羅茨泵 |
| 升溫速率 | ≥8℃/min |
| (滿載、≥1500℃） | |
| 溫度均勻性 | ≤±4℃ |
| 具備功能 | 真空燒結、靜態燒結、氣氛燒結、急速冷卻 |
| 工藝氣體種類 | H2 N2 Ar |
